其他杂质对铝合金氧化膜层的影响

时间:2013-11-30 作者:dlz0099 分享到:

其他杂质对铝合金氧化膜层的影响

Cl-, F-, NO3一等阴离子含量高时,能使膜层孔隙增加使膜层疏松、粗糙,甚至于发生局部腐蚀。这些杂质在电解液中的允许含量为:Cl一小于100mg/L,F一小于50mg/L。当超过这一极限值时铝合金工件表面将不能形成合格的氧化膜层,甚至于会发生穿孔现象而报废。这些阴离子杂质主要来自于配制电解液和清洗工序的水源,特别是C1-。因而必须严格控制水质,所以在配制H2SO;电解液时尽量采用去离子水或蒸馏水配制。

铝合金中含有Cu, Si等元素时,随着氧化的进行,会溶解在电解液中而成为杂质。Cue+含量超过100mg/L时,会使氧化膜层出现暗色条纹和黑色斑点。在一般情况下可向电解液中添加少量HNO3或适量铬酸来降低电解液中Cue+对氧化膜质量的影响。当电解液中Cu”十含量较高时,可采用直流低电流处理,阳极电流一般控制在0. 1-0. 2A/dm2左右。定期刷洗阴极板表面沉积物,也可以除掉电解液中Cue+等较高电位的金属离子。
Si在H2 SO;电解液中不溶解,主要在溶液中悬浮,使电解液混浊度增大,并易于以褐色粉状物吸附在阳极工件表面使膜层产生斑点。经常过滤电解液一般都能有效地除掉。
搅拌所使用的压缩空气所带来的油脂,同样会阻碍氧化膜层的正常生长,使膜层发生局部侵蚀,或是进人孔隙中而使膜层出现斑痕,影响着色效果。

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